黄逸凡

采用氯化锂为插层剂，可快速制备出具有小D峰/G峰比(0.02)以及大碳氧比(31.5)的石墨烯产物。并且，这种方法可以拓展至高质量少层2H相二硫化钼的制备。和传统的插层剂辅助电化学方法相比, 等离子体诱导产生的大量活性粒子以及快速的电子转移，使得插层剂辅助的等离子体液相技术剥离的产物缺陷少且不会引入额外的基团。这种可控的快速剥离方法在制备其他各种类型的高质量二维材料方面都具有巨大潜力，这为二维纳米材料的高效制备提供了新的策略。