高力波

  • 成果 | 高力波课题组实现无缺陷石墨烯稳定封装氢分子

    高力波课题组利用质子辅助法成功在完美石墨烯的层间实现限域空间中氢分子存储,并深入研究层间氢分子的稳定性和其在层间的传输性质。

    2023年8月30日 科研进展
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  • 两篇Nature来相遇:一篇来自南京大学,一篇破解半个多世纪争议!

    CVD是生长高品质石墨烯的重要方法,已经发展了十年之久。问题在于,石墨烯与生长基地之间结合牢固,导致往往不可避免地产生大量褶皱,极大地影响了石墨烯的最终应用效果。那么,这些褶皱到底对石墨烯性能有多大影响?能否做出没有褶皱的石墨烯呢?

    2020年1月12日 科研进展
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  • 我科学家成功研制超平整石墨烯薄膜

    据悉,该成果所涉及的化学气相沉积方法(CVD)生长石墨烯,是目前制备大面积、高品质单晶晶粒或者薄膜的最主要方法。然而,由于石墨烯与基质材料能够产生强耦合作用,使得石墨烯在生长过程中会形成褶皱。这一现象严重限制了大尺度均一薄膜的制备,阻碍着二维材料的进一步发展应用。

    科研进展 2020年1月10日
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  • 《Nature》南京大学在石墨烯薄膜领域取得重要进展!

    本工作中,研究人员推测了质子在穿透石墨烯后,有一定概率会再次与电子组合成氢。为此,课题组通过氢气、氘气(D2)、氦气(He)等离子体的作用效果对比,验证了所设想的模型。因此,唯有增加质子密度,则成为减弱二者耦合作用的关键途径。有鉴于此,研究团队采用氢气等离子体处理褶皱化的石墨烯薄膜,并辅以高温,可以逐步减弱并彻底消除石墨烯褶皱。如果在生长石墨烯的同时,引入氢气等离子体,则生长出来的石墨烯则为完全无褶皱。

    2020年1月10日
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  • 南京大学最新Nature: 质子辅助生长用于高质量石墨烯的制备

    众所周知,通过化学气相沉积(CVD)方式生长的石墨烯薄膜具有独特的理化性质,因此在柔性电子学、高频晶体管等领域具有巨大的应用前景。然而,由于石墨烯与基质材料能够产生强耦合作用,使得石墨烯在生长过程中会形成褶皱。这一现象严重限制了大尺度均一薄膜的制备,阻碍着二维材料的进一步发展应用。

    2020年1月9日 科研进展
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