韩国科学技术大学

飞秒激光诱导的选择性蚀刻工艺用于制造定制的微结构，确保最小但有效的激光-Gf 相互作用，并具有优异的表面条件以抑制吸收和散射损失。 通过基于空间扩散的原子碳喷涂工艺制备Conformal Gf，即使在微结构的复杂表面上也能均匀地合成纳米晶体。来自 Gf 可饱和吸收器的高能脉冲演示突出了其简单、过程高效、可调节和稳健的性能。由此产生的双曲线正割脉冲分别显示高达 13.2 nJ 和 20.17 kW 的单个脉冲能量和峰值功率。