赵丹
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超薄氧化石墨烯气体分离膜中非选择性孔的修补及其氢气分离性能研究
氧化石墨烯(Graphene Oxide, GO)被公认为一种理想的超薄气体分离膜材料,利用GO薄片中选择性孔及其层间距构筑纳米级长度的气体分子传输通道,有望突破目前气体分离膜渗透性和选择性难以兼顾的限制。然而,受GO薄片中孔径分布不均匀性的限制,高分离选择性超薄GO气体分离膜的制备仍然存在较大困难。
氧化石墨烯(Graphene Oxide, GO)被公认为一种理想的超薄气体分离膜材料,利用GO薄片中选择性孔及其层间距构筑纳米级长度的气体分子传输通道,有望突破目前气体分离膜渗透性和选择性难以兼顾的限制。然而,受GO薄片中孔径分布不均匀性的限制,高分离选择性超薄GO气体分离膜的制备仍然存在较大困难。
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