胡云霞

本研究使用一种新型AP-POSS分子插层修饰到GO膜中，从而构建了一种层间结构与传质特性可调节的GO/POSS膜。相比原始GO膜，GO/POSS膜厚度略有提升、亲水性和电负性增强。在较低的AP-POSS负载下即可支撑相邻的GO纳米片，从而增加GO的稳定性并减少GO膜表面褶皱的形成，使膜表面更光滑。