李雪松

  • Carbon: 闪蒸焦耳加热法制备抗氧化石墨烯包覆铜颗粒

    本研究采用闪速焦耳加热(FJH)技术,以基础铜碳酸盐和葡萄糖为原料,制备了具有良好导电性和抗氧化性的石墨烯包覆铜颗粒(Cu/Gr@Gr)。与传统方法相比,FJH技术无需昂贵的后处理,且所得材料导电性较以往报道的石墨烯包覆铜颗粒有显著提高。

    2024年6月6日 科研进展
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  • 【电磁屏蔽】Small Methods:碳热冲击制备的多孔石墨烯在微波和太赫兹波段的电磁屏蔽性能研究

    该研究以低价值的蔗糖为原料通过碳热冲击制备出不同缺陷度的多孔石墨烯。整个过程成本低、简单、环境友好。该多孔石墨烯被证明在微波和太赫兹波段具有良好的绿色屏蔽性能,这对一些即将到来的集成多个电磁波段的应用具有实际意义。

    2023年2月4日 科研进展
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  • IFGSZ人物访谈:电子科技大学李雪松教授

    大家好,我是电子科技大学教授李雪松。我在2009年发明了基于铜基底的化学气相沉积法制备大面积石墨烯薄膜的方法。这个工作发表于2009年Science,并被Science选为当年的重大科学突破之一。现在这个方法已经被广泛应用到学术领域和工业制备上,成为制备石墨烯薄膜的主要方法。

    2022年9月5日
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  • SCMs|卷对卷化学气相沉积法制备石墨烯

    近日,电子科技大学李雪松教授等人在SCIENCE CHINA Materials发表研究论文,通过研究石墨烯的生长演化过程,发现在相同的反应参数下,R2R工艺的石墨烯晶畴密度大于B2B工艺的石墨烯畴密度,其原因归结于两种工艺不同的反应过程;而通过延长反应时间,可以对石墨烯薄膜的缺陷进行修复。在优化的R2R工艺下,可以获得与常规B2B工艺相当的高质量石墨烯薄膜。

    2021年11月26日
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  • 福建闽烯科技有限公司

    公司已掌握化学气相沉积法CVD制备石墨烯薄膜技术,致力于研发和生产大面积高品质石墨烯薄膜以及石墨烯应用产品。闽烯科技长期跟踪和研究石墨烯领域的发展趋势和国际最新技术,对国内外的技术水平有非常精准的把握,在石墨烯CVD制备技术及应用领域已经处在国际领先水平。闽烯科技正致力于成为全世界一流的石墨烯企业,为科技和产业发展提供无限可能。

    2019年7月10日
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  • 4月10日李雪松报告:石墨烯化学气相沉积法可控制备

    报告题目: 石墨烯化学气相沉积法可控制备(Controllable synthesis of graphene by chemical vapor deposition)

    产业新闻 2019年4月4日
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  • 李雪松:致力于推动石墨烯生产规模化

    然而经过一段时间的努力,从最开始的各种理论计算,经过反复尝试,他和团队成员终于成功地找到了一种可以大面积制备石墨烯薄膜的方法——化学气相沉积法。这项工作在《科学》上发表后,立即引起巨大反响,世界多家媒体和网站对这一工作进行报道或转载,认为该工作“打开了大规模制备石墨烯电子器件之门”。   

    访谈评论 2018年6月1日
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  • 福建省引进高层次创业创新人才的公示通告

    根据《福建省“海纳百川”高端人才聚集计划(2013—2017年)》和遴选办法规定,经资格审查、技术创新水平评审、答辩综合评审、省委人才工作领导小组会议审议、实地考察等程序严格遴选,确定林奕团队等111人(团队)为第六批省引才“百人计划”初步人选,孟晖团队等9个团队为第一批省引才“百人计划”预备团队。

    政策动向 2018年4月9日
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  • 【海外访学讲堂】李雪松:眼界越高远 人生越精彩

    2014年Google Scholar的统计显示,李雪松作为第一作者发表在2009年《科学》上的关于石墨烯制备的文章,在所有同期刊文章中引用次数排名第二,在所有发表在《科学》和《自然》(Nature)的文章中排名第三。这一发明还获得了美国半导体研究联盟(Semiconductor Research Corporation)“发明家成就奖”、被《科学》列为“2009年重大科技突破”之一,并且在2010年诺贝尔奖获奖演讲中被重点引述。

    2016年12月11日
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  • 铜基底化学气相沉积法制备石墨烯薄膜

    该篇论文回顾了铜基底化学气相沉积(CVD)法制备大面积石墨烯薄膜的发展进程,主要包括相关的各种CVD技术、石墨烯生长机制与动力学、制备大面积石墨烯单晶的方法、石墨烯的转移技术等,并针对该技术目前所面临的挑战及前景进行了讨论。

    2016年6月24日
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