彭浣钦
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硼催化石墨化策略制备高导电石墨烯膜
拉曼光谱和XRD的结果表明,与纯的GPs相比,在较低热处理温度下,催化剂的加入有助于GPs结构缺陷的修复,提高其石墨化程度。催化动力学研究表明,硼的加入能显著降低石墨化反应的活化能,加快石墨化过程。在2000℃下热处理,加入硼催化剂的GPs电导率约为3400 S·cm-1,比纯GPs高47%,石墨化度提高了80%。硼催化石墨化是降低GO石墨化温度、大幅降低GPs生产成本的有效方法,获得的GPs可广泛应用于柔性器件、电磁屏蔽等领域。
拉曼光谱和XRD的结果表明,与纯的GPs相比,在较低热处理温度下,催化剂的加入有助于GPs结构缺陷的修复,提高其石墨化程度。催化动力学研究表明,硼的加入能显著降低石墨化反应的活化能,加快石墨化过程。在2000℃下热处理,加入硼催化剂的GPs电导率约为3400 S·cm-1,比纯GPs高47%,石墨化度提高了80%。硼催化石墨化是降低GO石墨化温度、大幅降低GPs生产成本的有效方法,获得的GPs可广泛应用于柔性器件、电磁屏蔽等领域。
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