廖珺豪
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北京大学刘忠范和林立团队:光刻胶辅助的石墨烯晶圆无损转移
这一方法避免了传统转移方法中聚合物在二维材料表面反复旋涂和去除过程对二维材料造成破损、褶皱、掺杂和污染等问题,成功实现了石墨烯的洁净转移,转移后石墨烯的电学性质得到明显改善,平均载流子迁移率可达6200 cm2·V−1·s−1。此方法可实现石墨烯等二维材料无损、洁净转移和高性能器件的构筑,将有助于推动二维材料在电子、光电子器件领域的应用。
这一方法避免了传统转移方法中聚合物在二维材料表面反复旋涂和去除过程对二维材料造成破损、褶皱、掺杂和污染等问题,成功实现了石墨烯的洁净转移,转移后石墨烯的电学性质得到明显改善,平均载流子迁移率可达6200 cm2·V−1·s−1。此方法可实现石墨烯等二维材料无损、洁净转移和高性能器件的构筑,将有助于推动二维材料在电子、光电子器件领域的应用。
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