化学气相沉积

苏州大学Mark H. Rummeli团队在Nano Research上发表综述文章，从对污染控制和成品石墨烯结构完整性保护的角度，综述了一系列目前石墨烯转移技术。此外，还讨论了它们的可扩展性、成本效益和时间效益，总结了石墨烯技术的转移挑战、替代选择和未来发展前景。

化学气相沉积(CVD)是一种生产高质量固体薄膜和涂层的强大技术。尽管已广泛用于现代工业中，但由于它已适应新材料，因此仍正在不断发展中。如今，通过精确制造2D材料的无机薄膜和可以共形沉积在各种基材上的高纯度聚合物薄膜，CVD合成技术正被推向新的高度。

单层石墨烯的堆叠，以精准构造多层石墨烯，为石墨烯带来了许多特殊的性质。魔角石墨烯就是一个典型的例子。然而，实现多层石墨烯的层数和堆叠顺序的精准控制，依然是一种挑战。

作者认为不同的圆形单晶畴区之间会因为库伦相互作用（路易斯酸B与路易斯碱N）而导致畴区旋转，这种神奇的运动要一直持续到畴区边缘找到合适的拼接晶向并无缝拼接才会停止，进从而形成整张单晶薄膜。

第一作者逄金波博士等利用10页正文和33页支撑材料的篇幅，向二维材料的研究人员和其他读者展示一个三明治结构的样品放置方式，来精确控制气源的引入，在绝缘基底上，实现石墨烯单层薄膜的自限制生长过程。本文系统地研究生长过程中的生长机理、时间依存以及晶畴长大过程中的融合成膜以及晶界的形成过程。

化学气相沉积法最早出现在二十世纪六十年代，主要用来制备高纯度、高性能的固体薄膜。石墨烯的化学气相沉积的原理是：将一种含碳的气态物质在高温和高真空的环境下，用氢气作为还原性气体，通入到炉内，生成石墨烯。