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【制备专栏】化学气相沉积(CVD)技术梳理
CVD和PVD之间的区别主要是,CVD沉积过程要发生化学反应,属于气相化学生长过程,其具体是指利用气态或者蒸汽态的物质在固体表面上发生化学反应继而生成固态沉积物的工艺过程。简而言之,即通过将多种气体原料导入到反应室内,使其相互间发生化学反应生成新材料,最后沉积到基片体表面的过程。
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德国莱布尼茨固态与材料所ACS Nano:(半导体工艺兼容的)在氧化硅绝缘基底上直接生长的大面积均匀单层石墨烯
第一作者逄金波博士等利用10页正文和33页支撑材料的篇幅,向二维材料的研究人员和其他读者展示一个三明治结构的样品放置方式,来精确控制气源的引入,在绝缘基底上,实现石墨烯单层薄膜的自限制生长过程。本文系统地研究生长过程中的生长机理、时间依存以及晶畴长大过程中的融合成膜以及晶界的形成过程。
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北京大学Adv. Mater.:可提高抗腐蚀性能的石墨烯包覆铝箔作为锂离子电池集流体
研究人员充分利用对离子分子不通透的石墨烯薄膜,在低温条件下直接在铝箔表面生长多层石墨烯薄膜,可以提高集流体在LiPF6和酰亚胺基电解液中的抗腐蚀性。同时,研究者的研究表明 LiMn2O4电池用石墨烯包覆铝箔作为集流体拥有优越的电化学性能,包括更好的长期循环性和倍率性能,并且改善了自放电性能。这也为未来5V 高压锂离子电池的设计奠定了基础。
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材料基因组计划是何方神圣?它会变革材料研发吗?
材料基因组计划研发思路是建立成分、工艺、微结构、性能之间的内在联系,然后根据材料对性能的需求,设计符合要求的微结构;根据这种联系,设计并优化材料成分与工艺。
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Nature子刊:诺奖得主Geim团队-层间距可控的氧化石墨烯离子筛分膜
通过调节环境湿度来精确控制GO膜的层间距,尺寸为68nm的二维毛细通道更适合于截留水合半径小的离子(如K+,Na+),通过对GO膜进行物理封装限制,有效抑制了GO膜在水中的溶胀。从而精确控制离子筛分膜实现有效截留。
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世界首架石墨烯强化飞机起飞
在今年早些时候举行的英国范堡罗(Farnborough)国际航展上,第一架采用了石墨烯增强机翼的模型飞机Prospero成功飞行。该次飞行为石墨烯在航空航天部门的应用作出了示范。Prospero将在2016年11月29日至12月1日于德国杜塞尔多夫(Düsseldorf)举办的欧洲复合材料展览会上展出。
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ACS NANO:在外延石墨烯上水分解产氢的机理揭秘
近日,Antonio Politano 等人在ACS NANO上发表了一篇关于外延石墨烯水解析氢机理探究的文章,详细地阐述了石墨烯-过渡金属界面产生和储存氢气的机理。