近日，华侨大学材料科学与工程学院中福建省石墨烯粉体及复合材料工程技术研究中心、厦门市高分子与电子功能材料重点实验室陈国华团队在国际权威期刊Advanced Science (影响因子14.7) 发表了题为“Toward a New Understanding of Graphene Oxide Photolysis: The Role of Photoreduction in Degradation Pathway”的研究成果。博士生杨宇辰、郑南之为该论文的第一作者，陈文华副教授与陈国华教授为通讯作者，华侨大学为独立完成单位。
氧化石墨烯（GO）因其迷人的物理化学性质而在各种应用中得到了发展。然而，弱的光稳定性总是导致GO在储存和应用过程中不可避免地发生光解。在过氧化氢存在的环境下，由羟基自由基主导的间接光解通过引起GO破碎和降解对其结构产生重大影响，而该途径可分为两个阶段。在早期阶段，光还原是产生多孔还原GO（PrGO）的主要反应。然后过氧化氢将PrGO分解成碎片，最终，碎片化的GO被•OH自由基转化为CO2。早期光还原过程中多孔结构的产生是后续光降解的关键前提，而没有多孔结构的GO薄片不能被过氧化氢和•OH破碎降解。在这项工作中，我们深入了解了间接光解途径和决定步骤，这将会为提高GO在实际应用中的稳定性提供帮助。
论文信息
Yuchen Yang, Nanzhi Zheng, Chen Ma, Silong Chen，Wenhua Chen*, Guohua Chen*. Toward a New Understanding of Graphene Oxide Photolysis: The Role of Photoreduction in Degradation Pathway. Adv. Sci. 2025, 2414716.
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