苏州盛光申请生长石墨烯的方法专利,提高低温生长石墨烯的效率

通过引入等离子体氧化气氛去除铜基底表面杂质;维持等离子体氧化气氛,采用化学气相沉积法,在所述铜基底表面生长石墨烯;其中,生长石墨烯所用碳源为固态碳源,所述固态碳源可通过将芳香族化合物与固体石墨烯混合得到。

金融界2024年12月20日消息,国家知识产权局信息显示,苏州盛光材料有限公司申请一项名为“种生长石墨烯的方法”的专利,公开号CN 119143117 A,申请日期为2024年9月。

专利摘要显示,本发明涉及一种生长石墨烯的方法,包括:通过引入等离子体氧化气氛去除铜基底表面杂质;维持等离子体氧化气氛,采用化学气相沉积法,在所述铜基底表面生长石墨烯;其中,生长石墨烯所用碳源为固态碳源,所述固态碳源可通过将芳香族化合物与固体石墨烯混合得到。本发明使用等离子体可高效去除铜表面杂质,提高了低温生长石墨烯的效率,能促进固态碳源快速裂解,同时引入石墨烯粉体或石墨烯片作为芳香族化合物的吸附载体,可有效调节裂解速度,有助于提高石墨烯质量。本发明用固态碳源在铜连接器上生长石墨烯,拓宽了石墨烯生长基底的选择范围,为石墨烯与铜材料结合的产品开辟了更加广阔的发展前景。

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