2D Generation 公司宣布，以色列创新管理局（Israel Innovation Authority）向该公司提供了一笔 120 万ILS（约 32.5 万美元）的赠款，该项目总投资为 240 万ILS（约 65 万美元）。
2D Generation 公司表示，这笔资助证明了公司的技术进步、知识产权实力和市场潜力。公司将利用这笔资金推动其新型低温石墨烯沉积技术的不断发展，为石墨烯在各行各业的应用带来新的可能性。
2D Generation 已开发出一种在低温下实现原位 ALD 石墨烯沉积的解决方案。该公司采用一种基于原子层沉积（ALD）的独特专利工艺，直接在晶片上形成石墨烯。该工艺使用已获专利的前驱体，是一种低于 280°C 的低温工艺。据说该工艺还与目前的制造限制兼容（可使用现有的工业工艺和设备）。作为该工艺的一部分，添加系链基团的目的是增加与氧化硅、金属和其他可选表面的附着力。
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