在二维材料系统中,垂直磁场可诱导体能带隙和手征边缘态,从而产生量子霍尔效应。量子霍尔效应的特征是,在线性响应范围内,零纵向电阻(Rxx)和霍尔电阻(Rxy)平台,量子化为h/(υe2),其中υ是朗道能级填充因子,e是基本电荷,H是普朗克常数。
今日,复旦大学 何攀Pan He, 沈健 Jian Shen等,日本 九州大学(Kyushu University)Hiroki Isobe等,新加坡国立大学(National University of Singapore)Gavin Kok Wai Koon,Junxiong Hu等,日本理化研究所新兴物质科学中心(RIKEN Center for Emergent Matter Science (CEMS))Naoto Nagaosa等,在Nature Nanotechnology上发文,探索了单层石墨烯调谐到量子霍尔态时的非线性响应。
研究观察到了三阶霍尔效应,并表现出了非零电压平台,随探针电流按立方比例变化。相反,三阶纵向电压保持为零。三阶响应的幅值,对磁场(低至~5T)和温度(高至~60K)的变化不敏感。
三阶响应出现在具有各种几何形状、不同衬底和堆叠配置的石墨烯器件中。还定义了量子霍尔态的三阶非线性响应效应,并提出了量子霍尔边缘态之间电子-电子相互作用是量子霍尔态非线性响应的起源。
Third-order nonlinear Hall effect in a quantum Hall system.
量子霍尔系统中的三阶非线性霍尔效应
第一作者:Pan He, Hiroki Isobe, Gavin Kok Wai Koon.
通讯作者:Pan He, Hiroki Isobe,Junxiong Hu,Naoto Nagaosa & Jian Shen
通讯单位:复旦大学,日本九州大学,新加坡国立大学,日本理化研究所
图1: 在经典和量子域中,线性霍尔效应和非线性霍尔效应示意图。
图2: 在量子霍尔态quantum Hall states,QHSs内,三阶非线性霍尔平台的观测结果
图3: 在量子霍尔态QHSs内,三阶霍尔效应的立方电流依赖性。
图4: 磁场和温度,对量子霍尔态QHS三阶非线性响应的影响。
文献链接
He, P., Isobe, H., Koon, G.K.W. et al. Third-order nonlinear Hall effect in a quantum Hall system. Nat. Nanotechnol. (2024).
https://doi.org/10.1038/s41565-024-01730-1
https://www.nature.com/articles/s41565-024-01730-1
本文译自Nature。
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