正泰电器获得发明专利授权:“生长单层石墨烯的工艺方法”

步骤1,将铜箔固定在阴极并置于酸性电解液中,在工作电极和对电极之间施加电压V0,对铜箔进行处理,持续时间t0;步骤2,将步骤1得到的铜箔依次置于去离子水和酒精中清洗,并用氮气吹干铜箔;步骤3,将步骤2得到的铜箔置在两层石墨片之间,采用化学气相沉积法,在铜箔两侧生长单层石墨烯;本发明的工艺方法,其制备的单层石墨烯纯净度高。

证券之星消息,根据企查查数据显示正泰电器(601877)新获得一项发明专利授权,专利名为“生长单层石墨烯的工艺方法”,专利申请号为CN202110622642.5,授权日为2024年5月14日。

专利摘要:本发明涉及材料制备技术领域,具体涉及一种生长单层石墨烯的工艺方法,其包括以下步骤:步骤1,将铜箔固定在阴极并置于酸性电解液中,在工作电极和对电极之间施加电压V0,对铜箔进行处理,持续时间t0;步骤2,将步骤1得到的铜箔依次置于去离子水和酒精中清洗,并用氮气吹干铜箔;步骤3,将步骤2得到的铜箔置在两层石墨片之间,采用化学气相沉积法,在铜箔两侧生长单层石墨烯;本发明的工艺方法,其制备的单层石墨烯纯净度高。

今年以来正泰电器新获得专利授权164个,较去年同期增加了45.13%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了11.79亿元,同比增3.77%。

数据来源:企查查

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