ACS Nano：用于制造3D微结构的超薄可变形石墨烯蚀刻掩模

三维 (3D) 微加工技术在各个研究领域发挥着至关重要的作用。这些技术能够在微尺度上创建功能性3D结构，从而释放多种应用的可能性。然而，传统的制造方法在生产复杂的 3D 结构方面存在局限性，这需要大量的制造步骤，从而增加了成本。

近日，首尔大学Gwan-Hyoung Lee报道了一种使用石墨烯作为可变形蚀刻掩模来制造复杂3D微结构的技术。

文章要点

1）化学气相沉积(CVD)直接在硅衬底上生长的石墨烯对XeF₂气体具有良好的耐气性，是一种很好的刻蚀掩模材料。此外，石墨烯的超薄和柔性特性使其能够与底层结构保持一致，从而能够生产出以前需要复杂程序的复杂设计。此外，将灵活的石墨烯掩模与各种图案设计相结合，有助于生产具有可控刻蚀深度的复杂3D结构。

2）作为不同应用的一个例子，研究人员使用可变形的石墨烯刻蚀掩模在具有可重入结构阵列的硅衬底上制备了无所不包的表面。

参考文献

Jiwoo Kim, et al, Ultrathin and Deformable Graphene Etch Mask for Fabrication of 3D Microstructures, ACS Nano, 2024

DOI: 10.1021/acsnano.4c01279

https://doi.org/10.1021/acsnano.4c01279