近日,由BGI转移课题组、北京大学林立研究员团队联合化工行业龙头企业共同开展石墨烯水氧阻隔膜研发,通过无损转移技术将石墨烯转移至衬底上,实现了石墨烯与目标聚合物衬底(载体)之间、层与层之间的共形贴合,增强了石墨烯层间耦合,以及增加水、氧分子在石墨烯层间迁移渗透的能垒,大幅度提升阻隔性能。
水氧阻隔膜是OLED(有机发光半导体)、QLED(量子点发光半导体)、电子器件和OPV(有机薄膜太阳能电池)柔性封装的核心材料,主要隔绝水汽和氧对有机发光材料、量子点、有机发光元件的破坏,是制约器件使用寿命的关键因素。
水氧阻隔膜示意图
水氧阻隔膜的生产属于技术密集、资金密集行业,研制具有柔性、高透光度、高水氧阻隔性能的薄膜封装材料,具有重大的科学意义和应用价值。
水氧阻隔膜作为理想的薄膜封装材料,通过CVD工艺生长的高品质石墨烯薄膜,理论上可以阻隔小到氦气的所有气体分子,相比传统的无机封装材料,具有优异的柔性,在可见光区的透光率达到97.7%。本次研发过程将有望通过设计进一步降低水氧渗透率,达到10^–4~10^–6/(m2·d),这一突破可打破高阻隔膜被国外垄断的局面,也是石墨烯薄膜转移技术新领域、新应用的重要开拓,在基础研究和实际应用领域具有重要意义。
近年来,在生物检测仪器、高端科研耗材急需打破进口替代的“卡脖子”的需求环境下,BGI陆续推出TOC分离膜、电镜载网、水氧阻隔膜等精尖产品,满足了市场对石墨烯材料在光电器件、感知传感、智能显示、精密检测等精细化场景中的应用期盼。
未来,BGI将以市场为导向、用户需求为牵引,推动产、学、研一体化发展,打造石墨烯产业应用高地。
本文来自北京石墨烯研究院,本文观点不代表石墨烯网立场,转载请联系原作者。