2004 年，当石墨烯的生产即将实现时，它还被认为是一种机械新材料，其实际或商业应用十分有限。探索二维材料基础理论的文献可追溯到 20 世纪中期。然而，在使用胶带首次剥离单层石墨薄片之前，二维材料完全是假设性的，仅限于学术领域。物理学家使用多个剥离步骤依次分割石墨烯层，直到留下单分子层，然后将石墨烯薄片沉积到硅衬底上。原子力显微镜（AFM）对此进行了验证，揭示了石墨烯薄片的独特功能特性。
石墨烯生产随后获得了巨大的市场曝光率，从而引发了媒体的持续渲染。然而，石墨烯仍然是一项相对不成熟的技术，正逐步走向真正的商业可行性。这得益于剥离和外延石墨烯生产技术的众多创新。
尽管剥离法生产的石墨烯具有高功能性，但剥离法石墨烯转移的低产量和耗时特性限制了其商业可行性。随着通过化学气相沉积（CVD）法生长石墨烯技术的引入，对外延石墨烯生产的重大研究在该材料问世后的五年内取得了积极成果。
化学气相沉积石墨烯生产
CVD 已成为石墨烯生产中最重要的工具之一，因为它可以在基底材料上生长出大面积的石墨烯薄片，而不是通常通过剥离产生的片状石墨烯。这是通过在超高真空（UHV）条件下将反应气体或蒸汽流过加热的结晶基底来实现的。碳分子与基底之间的键合亲和力被确定为实现二维石墨烯独特电子带结构的关键。
这种对生长基底的需求延续了石墨烯的终端应用性问题，也延续了剥离石墨烯生产技术中所谓的 “转移问题”。然而，对合适的晶体生长表面的进一步研究发现，有许多基底能够促进功能性石墨烯薄片的外延生长。碳化硅（SiC）、铂（Pt）、镍（Ni）、钴（Co）、铜（Cu）。用于生产石墨烯的潜在中间表面不计其数，更多研究正在进行中。
然而，CVD 石墨烯生产的稳步发展受到了可扩展性问题的限制。例如，卷对卷生产每克石墨烯所消耗的铜量就很难调和。金属辅助剥离法（MAE）旨在缓解这些问题，它将石墨薄膜从铜基底转移到柔性表面，由于相对缺乏腐蚀性中间体，铜消耗量显著降低。它是可持续石墨烯生产的领先技术之一，可显著提高材料产量，同时实现铜基底的重复使用。
使用 Grolltex 生产石墨烯
Grolltex 是 CVD 生成石墨烯的领先制造商之一，可在铜上生产埃级的高质量薄膜，并将单层材料转移到硅酸盐和其他基底材料上。我们投入了大量资源，通过我们的专利转移技术，消除了石墨烯生产中对 “牺牲 “铜基底的需求，从而实现了比世界上任何其他地方都更具成本效益和可持续性的石墨烯生产。 我们帮助实现单层石墨烯的 “工业化”。
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[资料来源：石墨烯旗舰；AZoM］
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